杭州某半导体技术集成块制造出厂，晶圆生产制造全过程中生产含硅、氟的特出焦化废水处理，设计的处理投资规模1200吨/日。焦化废水处理因素复杂性，带有奈米级硅颗粒物及氢氧化钠，以往处理方案无从未达标。 污废水 组成及由来 核心生态破坏物 ：胶体溶液硅（100-500nm粒级）、氟阴阳离子（200-300mg/L）、异丙醇 从何而来环节 ：晶圆刻蚀化工废液（45%）、CMP化学反应机器抛光剂化工废液（40%）、机械清洗水（15%） 除理鑫霖环保工作流程 什么是创新主要包括"催化滤渣+防化膜溶合"技术设备线路： 钙盐析出 ：加药氯化钙消除氟铁离子（制成CaF2滤渣） 斜板沉淀池症状 ：包覆水解酸化池剂完成橡胶胶体部分硅脱稳 管式微滤 ：0.1μm粒径膜公款私存微细颗粒剂 反渗透设备法软件系统 ：脱盐率>98%，回收并率75% 化掉凝结 ：浓水段控制氟化物达标排放量 决定性功效 氟化物浓度值：<8mg/L（如果低于发达国家一个标准单位10mg/L） 硅分子量：<5mg/L 水网络资源使用率：70%适用降温塔补湿 垃圾减轻：多效蒸发杂质量较传统意义生产工艺减小60%